Photomask Blanks欠陥検査装置

「LODAS™ – AI50/100」

特徴:

  • 半導体用Photomask Blanks出荷検査、プロセス評価
  • 微分干渉顕微鏡にて欠陥解析
  • 検査対象:Photomask Substrate、Cr、Resist、MoSi
  • 検査項目:パーティクル、内部欠陥(Option)
  • 検査感度:PDM欠陥サイズ0.1μm(AI100)

「LODAS™ – BI8」

特徴:

  • クローム膜、ハーフトン膜、レジスト膜が検査可能
  • 白欠陥、黒欠陥の自動判別
  • 表面欠陥だけでなく、内部欠陥、裏面欠陥も同時検査。
  • 欠陥分析を助ける4種類のReview画像。
  • 「AI Classify」が欠陥分類、良否判定を行う。
  • メンテナンスフリー。
  • 世界初!反射散乱光、透過散乱光、共焦点光を用いたハイブリッド検査装置。
  • 今まで検査漏れしていた欠陥もしっかり検査。

対象欠陥: パーティクル、スクラッチ、ピット、気泡。

仕様:

  • 検査レーザー: 405nm 200mW LaserDiode
  • 検査時間:180sec
  • 検査対象:6inch Photomask blanks
  • 装置サイズ:WxDxH=450x500x730mm
  • ユーティリティー: AC100V~200V 10A

GlassWafe欠陥検査装置

「LODAS™ – BI12」

特徴:

  • Glass Waferの出荷検査、プロセス評価
  • 表裏面・内部欠陥の同時検査
  • 微分干渉顕微鏡にて欠陥表裏面欠陥判定・解析
  • 検査対象:12 inch、8 inch、6 inch、Glass Wafer
  • 検査項目:表裏面のパーティクル、内部欠陥

化合物半導体Sic、GaN検査装置

「LODAS™ – CI8」

特徴:

  • SiC単結晶ウエハ,EPIウエハ両方検査可能。
  • 表面欠陥だけでなく、内部欠陥、裏面欠陥も同時検査。
  • 欠陥分析を助ける4種類のReview画像。
  • 「AI Classify」が欠陥分類、良否判定を行う。
  • メンテナンスフリー。
  • 世界初!反射散乱光、透過散乱光、共焦点光を用いたハイブリッド検査装置。
  • 今まで検査漏れしていた欠陥もしっかり検査。

対象欠陥:パーティクル、スクラッチ、結晶欠陥。

仕様:

  • 検査レーザー: 405nm 200mW
  • 検査時間:200sec(サイズ:4inch)
  • 検査対象:2inch,3inch,4inch,6inch
  • 装置サイズ:WxDxH=450x500x730mm
  • ユーティリティー: AC100V~200V 10A

FPD Photomask欠陥検査装置

「LODAS™ – LIシリーズ」

特徴:

  • A面、B面同時検査
  • G10、G8、G6 サイズ対応可能
  • 微分干渉顕微鏡にて表裏面欠陥判定・解析
  • 検査対象:FPD Photomask Substrate、Cr、Resist Blanks
  • 検査項目:表裏面パーティクル、内部欠陥

組込型光学検査システムBuilt-in Optical Inspection System

「LODAS™ – BOIS」

特徴:

  • 顧客の洗浄機、研磨機、成膜装置等に合わせ,様々なプロセスシーンの結果検査に活用できる。
  • 余分なプロセス処理を省き、処理時間・コストを削減。
  • 検査装置は導入することなく,省スペース・省コストで品質アップできる。
  • インターフェースはRS232、IO、Ethernet等に対応、簡単に周辺装置とドッキング可能。

対象欠陥: パーティクル、傷、Pit、等。

仕様:

  • 検査レーザー: 405nm 200mW LaserDiode
  • 検査感度:100nmPSL以上(顧客ニーズにより変更可能)
  • 検査対象:Si Wafer,化合物半導体Wafer,ガラス基板等
  • ユニットサイズ:WxDxH = 250x200x500mm

保守サービス

弊社検査装置のメンテナンス・修理

  • 装置セットアップ完了直後の性能維持を定期的サポートします。
  • オンコールサービス対応。年中無休に安心サポートします。 電話番号:03-6451-4379 平日(9:00~17:00)
  • 新しい要望に真摯に対応します。
  • 顧客自ら保守・部品交換できるよう技術セミナー開催・マニュアル完備を充実します。
  • HDD、レーザー光源等消耗品の無償診断サービスにてサポートします。